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e-beam

美英

n.〔光〕电子束
网络电子束微影；电子束蒸镀机；电子束大厂

复数：e-beams

e-beam

英-汉英-英网络释义

e-beam

电子束

电子束(E—beam)测试PCB技术(4)李海【摘要】：正引言在前面关于HDI PCB测试技术的介绍中,我们提到PCB发展对测试技 …

电子束微影

电子束微影(E-Beam) 电子束微影(Electron Beam Lithography)与光学微影制程的步骤类似，目的都是将所需的图形缩小复制到 …

电子束蒸镀机

电子束蒸镀机 （E-beam）如下图所示，利用高压放电使通入之反应气体激发产生电浆 (Plasma)，再利用偏压或其它方式，将…

电子束大厂

半导体检测设备电子束大厂（E-Beam）汉微科（3658）今（24）日向主管机关提出转上柜申请，半导体设备即将出现获利1个 …

电子束检测机

汉微科是电子束检测机(E-beam)全球龙头厂商、市占率高达85％，主要客户包括台积电、联电、三星、海力士、东芝等全球15 …

电子光束

即使考量未来在先进制程或许会采用电子光束（E-Beam），台积电投资从事开发这类技术的厂商，投资金额也是非常小，原因 …

电子束蒸镀系统

电子束蒸镀系统 (E-Beam) 李承翰直流磁控溅镀系统 (DC Magnetron Sputtering system) 施政宏 Plasma Enhance HF－CVD法 …

例句：

Several companies and research institutes are currently developing e-beam tools for direct write lithography and other niche applications.

尽管如此，目前仍有许多公司和研究机构在继续研究和开发电子束光刻设备。

Using a magnetic field to curve the path of the e-beam permits screening of the hot filament.

用一个磁场使电子束走曲线路径能够屏蔽热阴极。

Refers to an e-beam evaporator or exposure system .

指电子束蒸发器或曝光系统。

Using PMMA e-beam resist , a line resolution down t0 0 . 1 ym has been achieved with this system.

使用 PMMA 电子束抗蚀剂，在该系统上获得 0.1 微米的线分辨率。

A Study of Thick Lenses of E-beam Exposure System with a Large Object Surface

电子束曝光机大物面强磁透镜的研究

Effect of Carbon Fiber on the Adhesion Property between the Fiber and Matrix Resin in E-beam Cured Composites

碳纤维在电子束辐射过程中对树脂基复合材料界面性能的影响

Measurement of the Dose Distribution in the Irradiation Vessel of the e-beam Flue Gas Scrubbing System

电子束法烟气净化装置中辐照反应室剂量场测量

Property comparison of optical thin films prepared by E-beam, ion assisted deposition and ion beam sputtering

电子束、离子辅助和离子束溅射三种工艺对光学薄膜性能的影响

Optimum for the parameters of aberration and distortion of narrow e-beam in normal solution

细电子束像差与畸变参量非劣解中的最优解

Using E-beam Direct Writing Method to Fabricate Low-efficiency Beam Sampling Grating

电子束直写制作低效取样光栅

Analysis of the forward scattering and backscattering in E-beam

电子束背散射与前散射的分析

Design and Implementation of Exposure Data Format for E-beam Lithography

电子束曝光数据格式的改进设计与实现

Pattern Generator for Nanometer E-beam Lithography System

纳米级电子束曝光机用图形发生器

Amplification of UV ultrashort pulse laser in e-beam pumped KrF amplifier

电子束泵浦 KrF 激光器进行超短脉冲的单束放大实验研究

The Influence of Guiding Magnetic Field to the E -Beam Reflux in Foil-less Diode

无箔二极管中引导磁场对电子回流的影响

Real -Time Display System Design for E-beam Lithography Process

基于单片机彩色液晶实时显示系统设计

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